光电表征(探针台、半导体参数测试仪、显微拉曼光谱、椭圆偏振系统、膜厚仪) - 微纳蓝鲸

光电表征(探针台、半导体参数测试仪、显微拉曼光谱、椭圆偏振系统、膜厚仪)

作者:微纳蓝鲸 / 公众号:Microfab_NJU 发布时间:2019-11-03


1. 探针台
2. 半导体参数测试仪
型号:4200-SCS/F
技术指标:
源测量单元:4个源测量单元
I-V测量最大电流:100mA。
I-V测量最小分辨率:最小分辨率为0.1fA。
I-V测量最大电压:200V。
C-V测量:扫频范围1KHz-10MHz,偏置电压±60V。
主要功能:
电学特性测量设备,可实现I-V和C-V等特性表征。
3. 显微拉曼光谱
型号:Jobin Yvon HR-Evolution 2
技术指标:
主要用于测量拉曼,荧光信号。
光谱分辨率:0.65 波数(585 nm)
光谱重复性:0.2 波数
空间分辨率:横向1um, 纵向2um
光谱范围:50-9000波数
配备325 nm,532nm,633nm,785nm激光
探测器:CCD,InGaAs探测器
主要功能:
常用的光学表征与测试技术。通过一定波长的激光激发样品中的电子跃迁,探测该过程中在材料内部发生的各种拉曼散射以及荧光信号,从而得到材料内部的电子能级,能带结构,声子等物理信息。是低维半导体,复杂电子体系,石墨烯等前沿领域必不可少的研究与表征设备。常用的光学表征与测试技术。通过一定波长的激光激发样品中的电子跃迁,探测该过程中在材料内部发生的各种拉曼散射以及荧光信号,从而得到材料内部的电子能级,能带结构,声子等物理信息。是低维半导体,复杂电子体系,石墨烯等前沿领域必不可少的研究与表征设备。
4. 椭圆偏振系统
型号:Horiba UVISEL-2
技术指标:
主要用于膜厚以及折射率、消光系数等光学常数的测量
测量范围:190-2100 nm
测量薄膜厚度:小于10 nm
相位调制:50KHz PEM调制
自动平台扫描成像
主要功能:
是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量设备。由于并不与样品接触,对样品没有破坏且不需要真空。可测的材料包括:半导体、电介质、聚合物、有机物、金属、多层膜物质。可以应用于半导体、通讯、数据存储、光学镀膜、平板显示器、科研、生物、医药等领域。
5. 膜厚仪
型号:F40
技术指标:
波长范围:400 nm-850 nm
仅测量厚度:20 nm-20 um。
厚度和n、k值:50 nm-5 um。
准确度:0.4%。
主要功能:
通过薄膜上下层的反射谱,测量薄膜的厚度和光学常数(n、k值)。可用于光刻胶膜层、氧化物或氮化物膜层、硅和其它半导体膜层等的厚度和光学常数的测量。
南京大学最新、最全、最前沿的科技资讯!
争做最专业的微纳米加工技术公众号!
微纳蓝鲸,你值得拥有!

关注微纳蓝鲸微信公众号,获取更多图文精彩内容


其他栏目

北京pk10全天计划网页版